Решение мониторинга производственного процесса кубического полупроводника

В производстве полупроводниковПромышленность, ДляМинимизEПотери выхода, оно необходим для заводов изготовления полупроводника (полупроводника Фабрики) принять строгие стратегии контроля загрязнения в чистых помещениях. Обычно, pАртикулированные вещества являются одним из основных источников микрозагрязнения в процессах производства полупроводников, который необходимо постоянно контролировать..

Чтобы помочь заводам по производству полупроводников (полупроводниковые фабрики) непрерывно контролировать твердые частицы. ДляПоддерживать низкий уровень частиц в воздухе В чистых помещениях,КубическийОбеспечил надежный ОптическийЧастица Счетчики на основе технологии рассеяния света,OPC-6303 Серия ИOPC-6510 Серия, которая Реализовать точное обнаружение частиц различного размера в единице объема воздуха.Благодаря встроенному уникальному модулю датчика лазерного счетчика частиц, вентилятору с постоянными оборотами и хорошо продуманному ультразвуковому датчику потока OPC-6510 Серия и OPC-6303 серия можетОбеспечивает стабильную и высокую скорость потока 28,3 л/мин с частотой отбора проб газа, что позволяет ему соответствовать ИСО 21501-4Требование. КубическийОнлайнОптический Счетчик частицМожет одновременно выводить количество частиц из 5 каналов 0,3 мкм, 0,5 мкм, 1,0 мкм, 5,0 мкм, 10 мкм в шт./28,3 л или шт./м³ и поддерживает работу 24/7 для обеспечения стабильного и непрерывного мониторинга частиц.Кроме того,КубическийОптический Счетчик частиц (OPC)СерияМожет обеспечить онлайн-передачу данных мониторинга на основе связи RS485 ModBus и MQTT, которые могут быть дополнительно интегрированы в систему фильтрации для поддержания загрязнения частиц в среде чистых помещений в определенном диапазоне низких концентраций.

Кроме того, дляВовремя реализовать предупреждение о безопасности во время производственных процессов полупроводниковой промышленности, Кубический также разработанДатчик следа влажности на основе технологии TDLAS И датчик кислорода, чтобыИзмерение Содержание следов в газах ультра-высокой чистоты С высокой селективностью, высокой точностью и превосходнымНадежность.